苏州晶洲 PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清
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技术优势： 1.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机具有可观的电池效率提升，根据不同的工艺基础，可提升0.2%-0.3%。 2.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机集扩散后抛光和湿法刻蚀与一体（专利技术），无需额外设备投入，无需增加工序。 3.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机无需使用NaOH, HNO3 H2SO4，更环保、更低的化学品耗用成本。 4.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机能实现硅片浸入溶液传输并抛光（专利技术），无需“水上漂”或“滚轮带液”，无刻蚀线，工艺稳定，容易控制。 5.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机解决了反应气泡不易散发的难题，抛光效果更好，碎片率更低。 6.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机采用专用抛光液，背面抛光效果更好，容易控制，产量大，成本低，废水低污染，易处理，节约废水处理成本。 7.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机背抛光技术与SE，背面钝化（AL2O3），背接触技术，两次印刷，MWT等主流技术可叠加，兼容性好，提升背面技术革新空间。 8.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机技术便于实现系统集成或模块化，方便客户选择整机或改造。 9.PV湿制程清洗设备 去PSG背抛光蚀刻清洗机是国内第一个完全拥有自主知识产权、新型提效解决方案。 苏州晶洲装备科技有限公司 地 址:江苏省常熟市辛庄光伏产业园光华环路32号 邮 编:215500 总 机:0512-52992666 传 真:0512-52210111 销售热线:0512-52992301- 8010 销售邮箱:sales@kzonetech.com 网 址:www.kzonetech.com